时间转眼而逝，初冬的京大已经感觉到寒冷，尤其是在一场小雨过后，寒意像针一样无孔不入。

今年的第一场雪，很快就要来了。

实验室外寒风习习，实验室内却温暖如春，华科院的八名研究生和曾泉此时内心更是一片火热。

他们早早等在实验室，看到陆隐进来急急迎了上去。

“陆工！”

“陆工！”

“陆工！”

“是今天吗！”

陆隐没说话，将身上的大衣脱下挂在架子上，神情凝重地扫向面前几人。

前几天他就说过，等数据计算无误，一切都准备齐全后，就可以开始对1nm光刻机雏形正式进行第一次试验。

“都跟我进来一下。”

陆隐走进办公室，打开了电脑，指着电脑上的草图和数据，对几人说道。

“不出意外，今天正式开始第一次实验，但在试验开始之前，这些数据我需要你们再继续验算一遍，数据无误，我今天就会申请关于材料，材料一到，即可开始着手准备。”

“是！明白！”

几人心中一阵亢奋，齐齐大喊。

随即几人快速将电脑上的草图和数据一份份拷贝下来，快速回到了自己的工位上，做好试验研发前的最后一项准备工作。

几人走后，陆隐却坐在电脑前出了神。

今日对1nm光刻机雏形进行第一次实验研发，是早就定好的事情，也是必要经过，但他心里总有些不安。

这次的实验过程，实在太过顺利了些，他总觉得缺少些什么，心里不踏实。

难道是过程太快？

陆隐闭目躺在椅子上，意识沉入脑海，在脑中一遍遍回想起关于1nm光刻机的各种程序和步骤。

光刻机的演进过程十分复杂，但它的核心只围绕着三个定律。

一是摩尔定律。

简单来说，整个世界都是由“0”和“1”组成，而在芯片里，表示“0”和“1”的基本元件就是晶体管，晶体管越多，芯片的运算速度就越快。

摩尔定律的意思就是说，同样大小的芯片，每隔两年里面的晶体管数量就会增加一倍，同理，性能也会增加一倍。

这就要求芯片制造得越来越精细，如今市面上的芯片已经进化到，要求两个器件之间，只能有几个纳米的距离了。

通常来说，造小的东西，核心思想就是放大，举个例子，像用机械的放大，就像杠杆这类的机械机构原理，但在纳米级精度上，机械的方法却又不够用了，所以就启用了“光”。

那么光又怎么放大？

其实很简单，投影！

像是我们日常生活中用到的投影仪，光刻机的核心就是造一个放大的，透光的模子，把想要的形状印在模子上，光通过模子照射在硅片上，这样就能制造出小尺寸的东西。

但因为技术瓶颈，这一项技术十年前就已经不用了。

目前世界上最先进的技术是“EUV”，这是郁金香国的ASML公司用二十年研发出来的。

说到这，就会引出第二个定律，瑞利判据。

总的来说，光刻机的研发是个极其复杂且精细的过程，哪怕一点点纳米级错误，哪怕是一粒灰尘，都会让整个研发毁于一旦！

另外还有存放光刻机的厂房，也必须是特殊材料制作，细节非常多，首先第一点，厂房的光必须要求是黄色。