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Chapter032 光刻机:至极变态的条件

送走李强,布一楠开始查看最近的各项工程进度。

水厂建好后,就要开始修建超纯水系统来观测超新星爆炸,将确实的证据摆在人类面前。

之前布一楠思考很久,还是决定要修建这个,因为这系统还有另外一个作用就是为未来研究中微子核裂变,是研究能源矩阵的基础研究。

翻看资料,反渗透膜的技术已经被基地中一名材料学专家转化为了工业技术,可实现量产了。

就是仪器设备这块还需要在打磨一下。

布一楠看了设计图之后又将这份设计做了些许修改和调整。

现在国家可真的没有太多钱了,自己的任何一项研究都需要海量资金。

虽然邓玉峰从来没说,不过她又不是傻的。

外附机械骨骼这件事就能看出来,国家在努力挣钱呢。

要不要再丢出一点东西,换钱?

悬浮车?

虚拟游戏?

磁悬浮技术拿出来了,估计产能够呛。

虚拟游戏需要脑机技术,超级芯片制造出来之后才能实现。

这麻爪了。

布一楠暗嘲自己就不是个能发大财的人,手里一堆王炸居然找不出一个能挣钱的东西。

算了,还是让别人操心去吧。

她只管把技术拿出来就行。

还是先搞完自己的芯片大业吧,这玩意一出,无人能敌。

之前说完了龟腚……硅锭到硅片的过程。

接下来就是将硅片光刻制成晶圆,这里就是整个芯片制造的另一个难点。

光刻就需要光刻机。

之前提到(第十章)EUV极紫光源的存在。

根据瑞利定理,要制造纳米级芯片,光刻的光波就要更短更小。

EUV是人类现阶段能实现的最短光13.5纳米。

这个光是利用40千瓦激光驱动深紫外线光(DUV)发出的193纳米光打击液态金属锡来实现。

为了得到波长更短,强度足够的光,需用光脉冲击打液态金属锡(20微米,从高空掉落的运动体)高频重复五万次每秒。

利用金属吸收反射的原理将光波变得更短,但是这种光的波长是短了,强度又不够,怎么办?

那就打击2次!

动次打次,动次打次~

光有了,就相当雕刻于有了刀。

光刻机还需要反射镜。

(反射镜原理不用讲吧,八年级物理,不会的都是九漏鱼~自己自首去)

这种反射镜只反射13.5纳米的光,镜子直径30cm,镜面要求非常平整。

平整到什么变态程度呢?

如果把这面镜子放大到地球那么大,这上面只允长一根头发那么大的误差,大约0.05纳米左右的凸起厚度。

(像我这种天生头发丝细的人的头发大约就是50微米(1微米=1000纳米),我有个朋友她一根头发顶我五根。(?ε?`)……羡慕死了……)

这样的反射镜每个镜子有40层这种镜面!一台光刻机上有这样的镜子最少20个!!

┴┴︵╰(‵□′)╯︵┴┴、

看到这里,有没有被逼疯?

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