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【章044】将硅片送入光刻机,惊动

一方面是为了钱。

另一方面,林凡是想通过这种方式,引起一些人的注意。

“直播间的兄弟们,接下来就是见证奇迹的时刻了!”

“让我们把设备面的显微镜系统,移动到标有‘align’字样的位置,然后调节显微镜的位置、焦距、放大倍率以及CCD的增益,直到我们可以通过监视器的屏幕,看清掩膜版的图形纹路。”

“接着,我们将硅片位置,微调到,与掩膜版完全对齐!”

“紧接着,我们找到控制面板山,标有‘contact’字样的真空度数阀门,将真空度数调整到需要的值,这里我们直接调整到负5。”

“然后,我们打开‘contact-vacuum’开关,让硅片和掩膜版紧密接触在一起。”

“记住,如果需要进行超高进度的曝光,此时可以关闭‘substrate-vacuum’开关。”

“最后,我们把显微镜系统,移回到‘home’位置。”

“打开汞灯电源,此时,电压会指示到最大数值,不必惊慌,按住‘start’键,大约5秒之后,触发汞灯,并检查设备风扇是否正常运转,如果触发成功,我们会看到电压回到十伏左右的位置。”

“如果不成功,那我们就先关闭电源,等一分钟之后,再次打开,并重新触发。”

“这里需要注意一点,一次触发时间不能超过十秒,否则就有可能损坏电源!”

“触发成功后,十分钟之内不得再次打开汞灯,否则也是一样。”

“好了,现在我们已经成功触发了汞灯!”

“接着我们再找到一枚标有‘set’字样的旋钮,将汞灯亮度和功率,调节到合适的区间,这里我推荐大家调节到ch-a15mw\/每平方厘米。”

“趁现在,打开左侧控制面板的曝光控制电源按钮,设定所需的曝光时间,等到汞灯预热8分钟后,开始曝光!”

讲到这一步的时候,林凡不自觉的加快了语速。

“曝光分为两种方式。”

“第一种是全自动,这里我们需要把‘auto-exposure’开关打开,并把右侧控制面板的‘home’开关,拨到‘exposure’位置,这样,曝光系统就会自动移动到硅片方,并自动设定曝光时间。”

“第二种是半自动,同样要先找到‘auto-exposure’开关,将其关闭,然后在将右侧控制面板的‘home’开关,拨到‘exposure’,再用‘auto-exposure’按钮打开曝光系统,手动设定时间。”

“以这两种方式,都可以通过这枚‘stop’按钮,中止曝光,并重置计时器。”

话音未落,林凡将手放在了设备一侧,身形挺得笔直,满心激动的盯着监视器屏幕的图像。

事实,整个操作流程,进行到这一步的时候,芯片加工环节就已经完成了。

“瑟尔!情况好像有点不对!昨天那位名叫林凡的龙国少年,好像是在鼓捣一台光刻机,据说是7纳米制程工艺的euv光刻机!”

远在万里之外的风车国。

一名秘书惊慌失措的闯入王立科学院内的会议室里,无比急促道。

“沃特?!”

“你说什么?龙国怎么可能会有7纳米制程工艺的euv光刻机?!”

“你确定你没看错?”

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